研发新一代环保水基光学清洗剂 DATE: 2018-08-10
光学材料在研磨、丝印后镀膜前都要进行精密洗净,以去除表面研磨剂、有机物、固体颗粒物、灰尘等各种污渍。一般光学清洗剂由于气味大、清洗剂相对不环保、清洗合格率低等不足,给企业造成较大的成本损失。
我公司开发新的新型光学清洗剂FOTAL236,选择最优进口原料精致配制,不含S、P、CL、APEO(难降解,国外已禁用)等物质。
FOTAL236用途特性:
安全环保,易降解,不含有毒有害物质,对作业人员安全无害
清洗过程无泡沫,易漂洗,光亮无痕;
选择最优进口原料配制,洗净速度特快,清洗合格率98%以上,远高于一般清洗剂。
我公司开发新的新型光学清洗剂FOTAL236,选择最优进口原料精致配制,不含S、P、CL、APEO(难降解,国外已禁用)等物质。
FOTAL236用途特性:
安全环保,易降解,不含有毒有害物质,对作业人员安全无害
清洗过程无泡沫,易漂洗,光亮无痕;
选择最优进口原料配制,洗净速度特快,清洗合格率98%以上,远高于一般清洗剂。
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