研发新一代环保水基光学清洗剂 DATE: 2018-08-10
光学材料在研磨、丝印后镀膜前都需要进行精密洗净,去除表面研磨剂、有机物、固体颗粒、灰尘等各类污渍。普通光学清洗剂往往气味偏大、环保性不足、清洗合格率有限,易给企业带来额外生产成本损耗。
我司全新研发新型光学清洗剂FOTAL236,甄选优质原料复配而成,不含S、P、CL、APEO(难降解,国外已禁用)类物质。
FOTAL236用途特性:
安全环保、易降解,不含有毒有害物质,规范操作下对作业人员刺激性低;
清洗过程低泡沫、易漂洗,清洗后工件表面洁净透亮;
采用优质原料调配,清洗效率出众,清洗合格率可达98%以上,清洗表现优于常规清洗剂。
我司全新研发新型光学清洗剂FOTAL236,甄选优质原料复配而成,不含S、P、CL、APEO(难降解,国外已禁用)类物质。
FOTAL236用途特性:
安全环保、易降解,不含有毒有害物质,规范操作下对作业人员刺激性低;
清洗过程低泡沫、易漂洗,清洗后工件表面洁净透亮;
采用优质原料调配,清洗效率出众,清洗合格率可达98%以上,清洗表现优于常规清洗剂。
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